GB/T 18193-2000 真空技術 質譜檢漏儀校準(1)

GB/T 18193-2000 真空技術 質譜檢漏儀校準(1)

GB/T 18193—2000 真空技術 質譜檢漏儀校準

Vacuum technology一Mass-spectrometer-type leak detector calibration

GB/T 18193—2000 真空技術 質譜檢漏儀校準等同采用ISO 3530:1979《真空技術質譜檢漏儀校準》，在技術內容上與該國際標準等效。但是考慮到我國標準本身的特點及漢語的表述習慣，使該標準既與國際標準接軌，又適合我國的國情，為此，對ISO 3530:1979標準的個別內容作了編輯性修改。

GB/T 18193—2000 真空技術 質譜檢漏儀校準規定了質譜檢漏儀校準的使用程序，即測定質譜檢漏儀靈敏度。但該程序需要使用的一個校準漏孔和一種標準的氣體混合物，不在這個標準的范圍內。質譜檢漏儀以下簡稱“檢漏儀”。檢漏儀用于機械孔(如針孔)的漏量和通過許多聚合材料而發生的漏氣的探測。那些表面解吸、氣化和氣穴的虛漏，一般不能用檢漏儀探測。

漏率校準范圍限制在一個規定的水平，因為對于較大泄漏這個因素是不重要的，而對于漏率小于10-,z Pa " m' " s-，的泄漏，這個因素就變得重要了。檢漏儀檢驗的對象可以在高真空條件下或者高于大氣壓下。一般在兩種情況下檢漏技術將不同。在第一種情況下，檢漏儀通常在接近它的低的極限壓力下進行工作;在第二種情況下，檢漏儀常被使用在其最大或接近最大工作壓力。對應于這兩個工作條件，兩個靈敏度術語定為:“最小可檢漏率”和“最小可檢濃度比”(見本標準第2章)。

這樣定義的兩個量是有關系的，但是，從一個數據去算得另一個數據不可行。因此規定了測定兩者的方法。

GB/T 18193—2000質譜檢漏儀校準標準用在真空技術領域中是一系列泄漏試驗程序和裝置標準之一。應用分類:氣密性、檢漏儀校準、漏孔的校準、氣體混合物、檢漏儀驗收規范和真空設備的氣密檢驗的一般程序。

上述應用分類中的一些項構成將來標準的課題。

范圍

本標準規定了質譜檢漏儀的校準程序它僅適用于校準將靈敏元件處于高真空系統中的檢漏儀。因此這個方法沒有制訂完整的驗收試驗。

本標準規定探索氣體使用氦一4。但在適當的預防措施下，可以使用其他探索氣體，如氫-400

本標準的應用受到檢漏儀不能測定小于10-" Pa "m'"s-'漏率漏孔限制。

本標準程序提出了測定最小可檢漏率和最小可檢濃度比的兩個要點。它分別應用于高真空和壓力大于一個大氣壓的檢漏儀上。

定義

本標準采用下列定義。

2.1本底(或殘余信號)background(or residual signal)

2.1.1本底background

沒有注人探索氣體時，檢漏儀給出的總的假象指示(本底發生在質譜管中或在電極電子系統中或同時發生在兩者中。由于離子不同于注人探索氣體所產生的離子，所以該術語習慣稱為指示)。

2.1.2 漂移drift

本底較緩慢的改變。有效的參量是在規定的期間內測得的最大漂移。

2.1.3 噪聲noise

本底比較快地改變。有效的參量是在規定的期間內測得的噪聲。

2. 1.4 氦本底helium background

由檢漏儀壁或檢漏系統釋放出氦所造成的本底。

2. 2 元件components

2.2. 1 人CI管路或試樣人口管路inlet line or sample inlet line

探索氣體從試驗件流到檢漏儀經過的管路

2.2.2 人口閥inlet valve

連接試樣與檢漏儀的閥門(見圖1)，它是檢漏儀的主要部件。

2. 2. 3 漏孔隔離閥leak isolation valve

安裝在試驗檢漏儀所用的漏孔和試樣人口管路之間的閥門(見圖1)0

2. 2.4 抽氣閥pump valve

安裝在抽空試樣人口管路使用的粗抽泵和管路之間的閥(見圖1),

2.2. 5 放氣 vent valve

用來引進空氣或其他氣體進人抽空的空問·以使那里壓力增加到大氣壓的一個閥門(見圖1)0

2.2. 6 補償控制:調零控制backing-off control, zero control

檢漏儀中的一種電控制，它可以改變儀表的輸出指示。當補償控制用于使輸出指示返回到刻度盤的零時也可稱為調零控制。

2.2.7 質譜管mass spectrometer tube

它是檢漏儀的一個元件，探索氣體在質譜管內被電離并被測定。

2.2.8 陰極filament

安裝在質譜管內用于電離氣體的(熱的)電子源。

2.3探索氣體search gas

在真空測試中，作用在被檢設備外表面通過漏孔進人設備或在高于一個大氣壓測試中，充人被檢設備后通過漏孔逸出而進行探測的氣體。

2.4 漏孔leaks

2.4.1 漏孔leak

在真空技術中是一個孔洞、孔隙、滲透因素或一個封閉器壁上的其他結構在壓力或濃度差作用下，使氣體從器壁的一側到另一側。也可以是一個可用于向真空系統引人氣體的裝置。

2.4.2 通道漏孔channel leak

可以把它理想地當做長毛細管的一個或多個不連續通道組成的漏孔。

2.4.3薄膜漏孔membrane leak

允許氣流通過或滲透穿過無孔壁的一種漏孔。對于氦，這種壁可以是玻璃、石英或其他適合的材料。