JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備
Vacuum ion coating plant
1、范圍
JB/T 8946—1999 真空離子鍍膜設備標準規定了真空離子鍍膜設備的技術要求，試驗方法，檢驗規則，標志、包裝、運輸和貯存等。
本標準適用于壓力在10-4~10-3Pa范圍的真空離子鍍膜設備（以下簡稱設備），具體包括如下類型：多弧離子鍍、電弧放電型真空離子鍍、空心陰極離子鍍（HCD）、射頻離子鍍（RFIP）、直流放電二極型（DCIP）、多陰極型、活性反應蒸發鍍（ARE）、增強型ARE、低壓等離子體離子鍍（LFPD）、電場蒸發離子鍍、感應加熱離子鍍、簇團離子束鍍等。
注：離子鍍是在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發物質部分離化，在氣體離子或被蒸發物質離子轟擊作用的同時，把蒸發物或其反應物沉積在基片上。
2、引用標準
下列標準所包含的條文，通過在本標準中引用而構成為本標準的條文。本標準出版時，所示版本均為有效。所有標準都會被修訂，使用本標準的各方應探討使用下列標準最新版本的可能性。
GB/T 6070—1995 真空法蘭
GB/T 11164—1999 真空鍍膜設備 通用技術條件
3、技術要求
3.1設備正常工作條件
3.1.1 環境溫度：10℃~30℃。
3.1.2 相對濕度：不大于75%。
3.1.3 冷卻水進水溫度：不高于25℃。
3.1.4 冷卻水質：城市自來水或相當質量的水。
3.1.5 供電電源：380 V三相50 Hz 或220 V單相50 Hz（由所用電器需要而定）；
電壓波動范圍：342 ~ 399 V或198 ~231 V；
頻率波動范圍：49~51 Hz。
3.1.6 設備所需的壓縮空氣，液氮，冷水、熱水等的壓力、溫度，消耗量等，均應在產品使用說明書中寫明。
3.1.7 設備周圍環境整潔，空氣清潔，不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵埃或氣體存在。
3.2 設備技術參數
3.2.1 設備的主要技術參數應符合表1規定。
|
